攜手Siemens EDA，以業界標準Calibre DRC為基礎，展示完整矽光子設計與驗證解方
恩萊特科技日前在台灣光電年度盛會 OPTIC 2024 中隆重展示完整的矽光子設計與驗證解決方案，涵蓋從元件設計到量產的全方位支持，為台灣矽光子相關產業帶來更高效、更可靠的設計流程。當前全球半導體產業正處於快速創新的關鍵時期，AI、高速運算及異質整合等技術迅速發展，使設計效率與可靠性成為產業的重要課題。
為應對這些挑戰，恩萊特科技致力提供從IC到系統層級的全面EDA解決方案，涵蓋IC、矽光子、MEMS、PCB 及製造相關應用，滿足不同層次的設計需求。
恩萊特科技展出的核心解決方案主要聚焦於三大領域：首先是元件設計，透過Siemens EDA的L-Edit及Photonics解決方案，工程師能在Layout平台直接完成曲線光波導設計，大幅簡化設計流程，特別適合IC、PIC、MEMS等高精密元件的開發需求；其次在晶片模擬方面，提供從電路到完整晶片的模擬功能，支援光電融合需求，包含非線性光纖分析、DSP模擬等進階應用，透過雙向轉換技術確保設計與佈局的一致性，顯著提升設計精準度與效率；第三是系統整合與驗證，以業界標準Calibre DRC為基礎，提供全面的佈局檢查與設計規則驗證，確保設計成果符合量產要求。
為持續深化產學合作，恩萊特科技將攜手光電學會於2025年2月12-13日推出「矽光子設計實戰課程」。
該課程特別導入與澳洲新南威爾斯大學（UNSW）合作的實戰級PDK，其投片產出週期較一般矽光子晶片代工廠更短，非常適合產學研各界靈活運用。
課程由學、業界頂尖之師資親自授課，內容完整涵蓋，從元件設計、電路模擬到系統整合的全方位實務知識，更規劃了光學神經網路、PAM調變等熱門應用的實際上機操作環節，讓學員們能夠快速掌握關鍵技術並接軌產業需求，期望透過完整的實務培訓，為台灣矽光子相關產業培育更多優秀人才。有意進一步了解課程內容者，可至中華民國光電學會官網查詢詳細課程資訊。
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